Visão geral

Agilize a qualificação do equipamento com medições sem fio.

Colete e exiba dados de partícula sem fio usando o APS e o software CyberSpectrum™ para diagnóstico de equipamento em tempo real. Compare o passado e o presente, bem como uma ferramenta com outra usando o ParticleSpectrum™. Economize tempo localizando facilmente as fontes de contaminação e vendo o efeito de limpezas, ajustes e reparos em tempo real.

Diminua os ciclos de manutenção do equipamento com um fator de forma semelhante a um wafer.

Detecte partículas em tempo real sem abrir a ferramenta, de maneira que você não precise expor áreas de processo ao ambiente. Um APS3 mais fino e mais leve vai aonde wafers vão para achar o lugar onde as partículas contaminam os wafers. Assim que a localização das partículas for identificadas, as ferramentas poderão ser limpas de maneira seletiva. Abra apenas a parte suja, mantendo as áreas limpas como estão.

Reduza as despesas do equipamento com dados objetivos e reproduzíveis.

Amplie o êxito do wafer monitor de primeira passagem, reduza as despesas de qualificação e aumente a disponibilidade com APS3. Receba avisos com antecedência para falhas de equipamento iminentes e otimize os planos de manutenção preventiva. Estabeleça uma linha de base a partir de uma ferramenta limpa e passe o APS3 por uma ferramenta candidata antes de submeter os wafers monitores.