Présentation

Accélérez la qualification des équipements avec des mesures sans fil.

Collectez et affichez des données de particules sans fil à l'aide d'APS3 et du logiciel CyberSpectrum™ pour diagnostiquer l'équipement en temps réel. Comparez le passé et le présent ainsi qu'un outil avec un autre grâce à ParticleSpectrum™. Gagnez du temps en localisant rapidement les sources de contamination et constatez en temps réel les effets des nettoyages, réglages et réparations.

Raccourcissez les cycles de maintenance des équipements grâce à un facteur de forme de type wafer.

Détectez les particules en temps réel sans ouvrir l'outil, et donc sans exposer les zones de processus à l'environnement. Plus élancé et plus léger, l'APS3 va là où vont les wafers pour trouver à quel endroit les wafers sont contaminés par des particules. Une fois que le lieu de contamination identifié, les outils peuvent être nettoyés de manière sélective. N'ouvrez que la zone encrassée et préservez la propreté des zones intactes.

Réduisez les dépenses d'équipement en exploitant des données objectives et reproductibles.

Améliorez la réussite de votre wafer de surveillance au premier passage, diminuez vos frais de qualification et augmentez la disponibilité avec l'APS3. Recevez une alerte précoce en cas de panne imminente de l’équipement et optimisez vos plans de maintenance préventive. Établissez une base de référence à partir d'un outil dont la propreté est connue, puis utilisez APS3 sur un outil candidat avant d'engager les wafers de surveillance.