Fluxo
Aplicação eficiente de fluxo em padrões precisos e finos maximiza rendimento e qualidade para a produção de chip flip e CSP
Visão geral
Como tecnologias como flip chip e CSP exigem operações de produção mais eficientes e de alto volume, rendimento sustentável e qualidade consistente são fatores críticos para o sucesso. O fluxo seletivo jateamento pode melhorar o rendimento em até 30%, otimizando simultaneamente preenchimento insuficiente confiabilidade, produção rendimento e equipamento utilização.
Por meio de seu desenvolvimento pioneiro de produtos robustos orientados à produção preenchimento insuficiente processos, a Nordson ASYMTEK identificou essa ligação crítica entre a aplicação de fluxo e a qualidade do preenchimento insuficiente. À medida que os tamanhos dos ressaltos diminuem, fica mais difícil controlar as operações de imersão para fornecer consistentemente quantidades menores de fluxo. Problemas como fluxo excessivo, resíduo de fluxo excessivo ou aplicação de fluxo inconsistente degradam significativamente a capacidade do underfill encapsulante para aderir uniformemente a todas as superfícies abaixo do chip. Isso aumenta o risco de vazios no preenchimento insuficiente, delaminação entre peça e Substrato e, finalmente, redução da confiabilidade do produto.
A Nordson ASYMTEK respondeu a esses desafios com o desenvolvimento de processos de dispensação de jato de fluxo orientados para a produção. O fluxo seletivo jateamento fornece um processo de alta velocidade e altamente adaptável para distribuição de fluxo em praticamente qualquer padrão.
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