Panoramica

Velocizza la qualifica dei macchinari con misurazioni wireless.

Raccogli e mostra i dati relativi alle particelle utilizzando la soluzione APS3 e il software CyberSpectrum™ per la diagnostica dei macchinari in tempo reale. Effettua confronti tra passato e presente, oltre che tra uno strumento e l'altro grazie a ParticleSpectrum™. Risparmia tempo individuando rapidamente le fonti di contaminazione e osserva gli effetti di pulizia, aggiustamenti e riparazioni in tempo reale.

Riduci i cicli di manutenzione dei macchinari con un fattore di forma simile a un wafer.

Rileva le particelle in tempo reale senza aprire lo strumento, così non sarà necessario esporre le aree di processo all'ambiente. La soluzione APS3 più sottile e leggera segue i wafer per individuare la posizione in cui le particelle contaminano i wafer. Una volta identificata la posizione delle particelle, gli strumenti possono essere puliti in modo selettivo. Apri soltanto l'area contaminata e proteggi le aree pulite dalle particelle.

Riduci le spese dei macchinari con dati obiettivi e riproducibili.

Aumenta il successo del wafer nella fase di monitoraggio del primo passaggio, riduci le spese legate alla qualifica e aumenta la disponibilità con APS3. Ricevi allarmi tempestivi per guasti imminenti ai macchinari e ottimizza i tuoi piani di manutenzione preventiva. Definisci una linea di base partendo da uno strumento pulito noto, poi utilizza APS3 in uno strumento candidato prima di iniziare a monitorare i wafer.