Serie de lotes AP de MARCH
Los sistemas de tratamiento de plasma por lotes ofrecen opciones de cámara de vacío pequeñas, medianas y grandes que brindan correlación de procesos, continuidad del controlador y tratamiento de plasma de gas de vacío confiable y reproducible.
Visión general
Las máquinas de tratamiento con plasma de la serie AP son adecuadas para una amplia variedad de aplicaciones de limpieza con plasma, activación de superficies y mejora de la adhesión. Estas capacidades se utilizan para la fabricación de semiconductores, empaquetado y ensamblaje microelectrónicos, y por los fabricantes de dispositivos médicos y de ciencias de la vida. La serie AP consta de cuatro sistemas de tratamiento de plasma por lotes que ofrecen opciones de cámaras de vacío pequeñas, medianas y grandes que brindan correlación de procesos, continuidad del controlador y tratamiento de plasma de gas al vacío confiable y reproducible para los clientes a medida que se expanden de un R& D entorno a varios niveles de producción.
Equipo de tratamiento de plasma características y ventajas
- El controlador PLC con pantalla táctil proporciona una interfaz gráfica intuitiva y una representación del proceso en tiempo real
- La arquitectura de estantería flexible permite el procesamiento de una amplia variedad de portadores de piezas en modo de plasma directo o descendente
- El generador de RF de 13,56 MHz tiene adaptación automática de impedancia para una reproducibilidad del proceso sin igual
- El software patentado sistema de control genera datos de proceso y producción para el control estadístico de procesos
- Estilo por lotes, cada unidad es completamente autónoma y requiere un espacio mínimo en el piso
- La bomba, la cámara, la electrónica de control y el generador de RF de 13,56 MHz están alojados en un único recinto
Modelos y configuraciones de equipos de tratamiento con plasma
AP-300™ y AP-600™ Máquinas de tratamiento de plasma: Las máquinas de tratamiento de plasma AP-300 y AP-600 son de sobremesa, completamente autónomas y requieren un espacio mínimo en la mesa. El chasis del sistema alberga la cámara de plasma, la electrónica de control, el generador de RF de 13,56 MHz y la red de adaptación automática (solo la bomba de vacío es externa al sistema). El acceso para el mantenimiento se proporciona a través de una puerta con enclavamiento o paneles extraíbles. La cámara de plasma admite hasta 7 estantes extraíbles y ajustables con alimentación o conexión a tierra para acomodar un amplia gama de piezas, componentes y portadores de piezas, incluidos cargadores, bandejas y botes. Los sistemas de tratamiento de plasma al vacío pueden acomodar una amplia gama de gases de proceso, incluidos argón, oxígeno, hidrógeno, helio y gases fluorados. Ambos modelos vienen estándar con dos (2) controladores electrónicos de flujo másico para un control óptimo del gas, con otros dos (2) disponibles opcionalmente (4 en total máx.). Convenientes conexiones de instalaciones para los requisitos de calibración periódica utilizados en los procesos de validación.
Equipo de tratamiento con plasma AP-1000™: La plataforma AP-1000 permite un acceso frontal completo que permite un acceso conveniente a todos los componentes interiores. La bomba está colocada sobre rodillos para facilitar su extracción. La cámara de plasma está construida con acero inoxidable de calibre 11 con accesorios de aluminio para una durabilidad superior. La cámara tiene varios estantes removibles y ajustables para acomodar una variedad de transportadores de piezas, incluidos cargadores, bandejas, obleas y botes Auer. El sistema de tratamiento de plasma AP-1000 con estantes opcionales HTP (high productividad) combina la confiabilidad y la calidad del proceso del sistema AP-1000 con los beneficios probados del diseño exclusivo de estantes de Nordson MARCH. El AP-1000 HTP optimiza el uso de los iones reactivos que se encuentran en el plasma de RF, lo que aumenta la uniformidad del tratamiento y reduce el tiempo del proceso. El sistema AP-1000 HTP permite la selección de una gama de gases de proceso como Argón, Hidrógeno y Helio. Viene equipado de serie con cuatro controladores de flujo másico para un control óptimo del gas. Los cargadores ranurados se colocan verticalmente dentro de la cámara.
Además, los cargadores ranurados se pueden colocar verticalmente dentro de la cámara. Por lo general, cada revista contiene un mínimo de 20 marcos de plomo. La cámara de plasma AP-1000 puede contener hasta 12 cargadores, según el tamaño del cargador.