概述

AP 系列等离子处理机适用于各种等离子清洗、表面活化和附着力改进应用。 这些功能用于半导体制造、微电子封装和组装，以及医疗和生命科学设备制造商。 AP 系列由四个批量等离子处理系统组成，提供小型、中型和大型真空室选项，当客户从 R& D 环境到各个级别的生产。

等离子处理设备特性和优点

• 带触摸屏的 PLC 控制器提供直观的图形界面和实时过程表示
• 灵活的搁板设计允许在直接或下游等离子模式下处理各种零件载体
• 13.56 MHz 射频发生器具有自动阻抗匹配功能，可实现无与伦比的过程再现性
• 专有软件控制系统生成过程和生产数据用于统计过程控制
• 批量式，每个单元完全独立，仅需要最小的占地面积
  

• 泵、腔体、控制电子元器件和 13.56 MHz 射频发生器安装在一个外壳中

等离子处理设备型号和配置

AP-300™和AP-600™等离子处理系统： AP-300 和 AP-600 等离子处理系统是台式的，完全独立，需要最小的工作台空间。 系统底盘装有等离子室、控制电子技术行业、13.56 MHz 射频发生器和自动腔体匹配网络（只有真空泵在系统外部）。 通过互锁门或可拆卸面板提供维护访问。 等离子支持多达 7 个可拆卸和可调节的电动或接地隔板，以容纳各种零件、组件和零件载体，包括弹匣、托盘和晶舟。 真空等离子处理系统可以适应各种工艺气体，包括氩气、氧气、氢气、氦气和氟化气体。 两个型号都标配两 (2) 个气体流量控制器，以实现最佳气体控制，另外两 (2) 个可选（最多 4 个）。 方便的设施连接，可满足验证过程中使用的定期校准要求。

AP-1000™ 等离子处理设备：AP-1000 平台允许全面的正面访问，方便操作所有内部组件。 泵位于滚轮上，便于拆卸。 等离子腔体由 11 号不锈钢制成，带有铝制固定装置，具有出色的耐用性。 该腔室有多个可拆卸和可调节的架子，以容纳一系列零件载体，包括料盒、托盘、晶圆和  晶舟。 带有可选 HTP（高通量）隔板的 AP-1000 等离子处理系统将 AP-1000 系统的可靠性和工艺质量与诺信 MARCH 独特搁板设计的成熟优势相结合。 AP-1000 HTP 优化了射频等离子体中反应离子的使用，提高了处理均匀性，同时缩短了处理时间。 AP-1000 HTP 系统允许从一系列工艺气体中进行选择，例如氩气、氢气和氦气。 它标配四个气体流量控制器，以实现最佳气体控制。 开槽弹匣垂直放置在腔室内。

此外，开槽弹匣可以垂直放置在腔室内。 通常，每个料盒至少包含 20 个引线框架。 AP-1000 等离子腔体最多可容纳 12 个料盒，具体取决于料盒大小。