개요

AP 시리즈 플라즈마 처리기는 다양한 플라즈마 세정, 표면 활성화 및 접착 개선 응용 분야에 적합합니다. 이러한 기능은 반도체 제조, 마이크로전자 패키징 및 조립, 의료 및 생명 과학 장치 제조업체에서 사용됩니다. AP 시리즈는 4개의 배치 플라즈마 처리 시스템으로 구성되어 고객이 R에서 확장함에 따라 프로세스 상관 관계, 컨트롤러 연속성 및 신뢰할 수 있고 재현 가능한 진공 가스 플라즈마 처리를 제공하는 소형, 중형 및 대형 진공 챔버 옵션을 제공합니다.& 다양한 수준의 생산에 D 환경.

플라즈마 처리 장비 기능 및 장점

• 터치 스크린이 있는 PLC 컨트롤러는 직관적인 그래픽 인터페이스와 실시간 프로세스 표현을 제공합니다.
• 가용성 선반 아키텍처를 통해 직접 또는 다운스트림 플라즈마 모드에서 다양한 부품 캐리어 처리 가능
• 13.56MHz RF 발생기는 비할 데 없는 공정 재현성을 위한 자동 임피던스 매칭 기능을 갖추고 있습니다.
• 독점적인 소프트웨어 제어 시스템은 통계적 공정 제어를 위한 공정 및 생산 데이터를 생성합니다.
• 배치 스타일, 각 장치는 완전히 독립되어 있어 최소한의 바닥 공간만 필요합니다.
• 펌프, 챔버, 제어 전 자 및 13.56MHz RF 발생기가 단일 인클로저에 들어 있습니다.

플라즈마 처리 장비 모델 및 구성

AP-300™ 그리고 AP-600™ 플라즈마 처리 기계: AP-300 및 AP-600 플라즈마 처리 기계는 벤치탑 스타일의 완전 독립형으로 최소한의 벤치 공간이 필요합니다. 시스템 섀시에는 플라즈마 챔버, 제어 전 자, 13.56MHz RF 발생기 및 자동 매칭 네트워크(진공 펌프만 시스템 외부에 있음)가 있습니다. 유지 보수 액세스는 연동 도어 또는 제거 가능한 패널을 통해 제공됩니다. 플라즈마 챔버는 매거진, 트레이, 보트를 포함한 다양한 부품, 구성 요소 및 부품 캐리어를 수용할 수 있도록 최대 7개의 이동식 및 조정 가능한 전원 또는 접지 선반을 지원합니다. 진공 플라즈마 처리 시스템은 아르곤, 산소, 수소, 헬륨 및 플루오르화 가스를 포함한 광범위한 공정 가스를 수용할 수 있습니다. 모델 둘 다 최적의 가스 제어를 위해 2개의 전자식 질량 유량 컨트롤러가 표준으로 제공되며, 선택적으로 2개(최대 총 4개)를 추가로 사용할 수 있습니다. 검증 프로세스에 사용되는 주기적인 교정 요구 사항에 대한 편리한 시설 연결.

AP-1000™ 플라즈마 처리 장비:  AP-1000 플랫폼은 전면 접근이 가능하여 모든 내부 구성 요소에 편리하게 접근할 수 있습니다. 펌프는 쉽게 제거할 수 있도록 롤러에 위치합니다. 플라즈마 챔버는 11게이지 스테인리스 스틸로 구성되어 있으며 알루미늄 고정구가 있어 내구성이 뛰어납니다. 챔버에는 매거진, 트레이, 웨이퍼 및 Auer 보트를 포함한 다양한 부품 캐리어를 수용할 수 있도록 여러 개의 이동식 및 조정 가능한 선반이 있습니다. HTP(high 처리량) 선반 옵션이 있는 AP-1000 플라즈마 처리 시스템은 AP-1000 시스템의 신뢰성 및 공정 품질과 Nordson MARCH의 고유한 선반 디자인의 입증된 이점을 결합합니다. AP-1000 HTP는 RF 플라즈마에서 발견되는 반응성 이온의 사용을 최적화하여 처리 균일성을 높이는 동시에 처리 시간을 단축합니다. AP-1000 HTP 시스템은 아르곤, 수소 및 헬륨과 같은 다양한 공정 가스 중에서 선택할 수 있습니다. 최적의 가스 제어를 위해 4개의 질량 유량 컨트롤러가 기본으로 장착되어 있습니다. 슬롯형 매거진은 챔버 내부에 수직으로 배치됩니다.

또한 슬롯형 매거진을 챔버 내부에 수직으로 배치할 수 있습니다. 일반적으로 각 매거진에는 최소 20개의 리드 프레임이 있습니다. AP-1000 플라즈마 챔버는 매거진 크기에 따라 최대 12개의 매거진을 수용할 수 있습니다.