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EDI® Ultraflow™ 合理化された共押出フィードブロック
これらのフィードブロックは、光学用途向けに特別に設計されており、プロセッサーに卓越した共押出の均一性を提供します。
機能の概要
| ニーズに合わせた設計 | |
|---|---|
| レイヤー シーケンスの配置 | オプションのセレクタープレートで可能 |
| 均一なレイヤーを作成する | オプションの交換可能な分配バーを利用して層の均一性を最適化 |
| 入口の場所を設定する | EDI®配信ブロックと組み合わせてカスタマイズ可能 |
| レイヤーを掛ける | EDI® Layer Multiplierシステムに対応 |
| プロセスに合わせて設計 | |
|---|---|
| 理想的なアプリケーション | 二軸延伸PETフィルム、ペイントプロテクションフィルム |
| レイヤー比率調整機能(ダウンタイム なし) | ± 10% |
| 押出機の最大数 | 3 |
| 最大レイヤー数 | 5 |
プロセスのメリット
レイヤー比率の安定性を最適化
Ultraflow™ の合理化されたフィードブロックでは、ポリマーは平行経路で結合されます。
アップタイム を増やす
Ultraflow™ の合理化されたフィードブロックは、スプリット ボディ設計で、新規または既存のラインに設置する際の物理的なスペース要件を最小限に抑えます。 さらに、この設計により、定期的なクリーニング手順をはるかに迅速に完了することができます。
資力
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文学
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テクニカルサポート
完全なソリューションを入手
プロセス全体に持続可能なソリューションを提供し、機器のインターフェースでの障害の可能性を排除します。
メルト ポンプ、ポリマー バルブ、メルトろ過システムから完全な水中ペレタイジング システム、熱分解クリーニング オーブン、押出および流体コーティング ダイ システムまで、当社の製品はお客様の運用を最適化するのに役立ちます。
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